JF-2型X射线晶体分析仪能够提供稳定的X射线光源,特点是利用可控硅和集成电路自动控制系统进行调流调压,从而获得一个强而稳定的射线光源.该机射线发生器功率大,整机稳定性高,操作简单,可靠性强,防护完善,可与各种射线照相机一起构成X射线晶体分析仪,或用于其他用途的X射线光源.，广泛用于冶金,机械,电子,化工,地质,,能源,等科研、企业、大专院校.
该X射线晶体分析仪，主要用于研究物质内部微观结构。如：单晶定向、检验缺陷、物质定性、测定点阵参数、测定残余应力等。
主要参数：
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电 源 |
AC220V 50HZ 30A |
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功 率 |
2 KW |
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靶 材 |
Cu（可选其他靶材） |
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管电压 |
50 KV（分档可调） |
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管电流 |
50 mA（分档可调） |
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稳定度 |
±1% |
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保 护 |
过功率、过电压、过电流、无水 |
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冷 却 |
循环水、制冷水箱 |
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防 护 |
铅有机玻璃与金属结构防护罩 |
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相 机 |
A：德拜相机（粉沫相机）大、小两种;) B:劳厄相机（平板相机）
（相机装底片 ；暗室洗底片）上述两种相机，用户可自行选配置 | |
